Casa
Sobre nós
Presentación da empresa
Cualificación e Honor
Campo de aplicación
Revestimento CVD
Cerámica de carburo de silicio (SiC).
Oblea
Cerámica de alúmina (Al203).
Cerámica de nitruro de silicio (Si3N4).
Cerámica SiC unida Si3N4
Cerámica de circonio (Zro2).
Cuarzo de alta precisión
Oblea
Outro material semicondutor
Centro de Prensa
Novas da empresa
Noticias da industria
FAQ
Contacta connosco
Destacado
English
Casa
Revestimento CVD
Partes de crecemento monocristais
Partes de crecemento monocristais
Pala cantilever de carburo de silicio
Carburo de tantalio poroso, material de campo quente para o crecemento de cristais de SiC
Revestimentos de carburo de tantalio (TaC) con alta pureza, estabilidade a altas temperaturas e alta resistencia química
Personalización de produtos de carburo de tántalo de alta pureza
Revestimento de carburo de tántalo (TaC) de alta calidade
English
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Kinyarwanda
Tatar
Oriya
Turkmen
Uyghur
