-
Engrenaxe da roda de revestimento de SiC: mellora da eficiencia de fabricación de semicondutores
No campo de rápido avance da fabricación de semicondutores, a precisión e a durabilidade dos equipos son fundamentais para acadar altos rendementos e calidade. Un dos compoñentes clave que garante isto é o SiC Coating Wheel Gear, deseñado para mellorar a eficiencia dos procesos...Ler máis -
Que é un tubo de protección de cuarzo? | Semicera
O tubo de protección de cuarzo é un compoñente esencial en diversas aplicacións industriais, coñecido polo seu excelente rendemento en condicións extremas. En Semicera, producimos tubos de protección de cuarzo deseñados para unha alta durabilidade e fiabilidade en ambientes duros. Cun carácter excepcional...Ler máis -
Que é o tubo de proceso revestido de CVD? | Semicera
Un tubo de proceso revestido de CVD é un compoñente crítico usado en varios ambientes de fabricación de alta temperatura e pureza, como a produción de semicondutores e fotovoltaica. En Semicera, estamos especializados na produción de tubos de proceso revestidos de CVD de alta calidade que ofrecen unha excelente calidade...Ler máis -
Que é o grafito isostático? | Semicera
O grafito isostático, tamén coñecido como grafito isostático, refírese a un método no que unha mestura de materias primas se comprime en bloques rectangulares ou redondos nun sistema chamado prensado isostático en frío (CIP). O prensado isostático en frío é un método de procesamento de material i...Ler máis -
Que é o carburo de tantalio? | Semicera
O carburo de tantalio é un material cerámico extremadamente duro coñecido polas súas propiedades excepcionais, especialmente en ambientes de alta temperatura. En Semicera, estamos especializados en ofrecer carburo de tántalo de alta calidade que ofrece un rendemento superior en industrias que requiren materiais avanzados para a aplicación extrema ...Ler máis -
Que é un tubo de núcleo de forno de cuarzo? | Semicera
Un tubo de núcleo de forno de cuarzo é un compoñente esencial en varios ambientes de procesamento a alta temperatura, moi utilizado en industrias como a fabricación de semicondutores, a metalurxia e o procesamento químico. En Semicera, estamos especializados na produción de tubos de núcleo de forno de cuarzo de alta calidade que se coñecen ...Ler máis -
Proceso de grabado en seco
O proceso de gravado en seco consta normalmente de catro estados básicos: antes do gravado, gravado parcial, só gravado e sobregrabado. As principais características son a taxa de gravado, a selectividade, a dimensión crítica, a uniformidade e a detección do punto final. Figura 1 Antes do gravado Figura 2 Grabado parcial Figura...Ler máis -
SiC Paddle en Fabricación de Semicondutores
No ámbito da fabricación de semicondutores, o SiC Paddle xoga un papel crucial, especialmente no proceso de crecemento epitaxial. Como compoñente clave utilizado nos sistemas MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), as paletas de SiC están deseñadas para soportar altas temperaturas e ...Ler máis -
Que é Wafer Paddle? | Semicera
Unha paleta de obleas é un compoñente crucial que se usa nas industrias de semicondutores e fotovoltaicas para manipular as obleas durante procesos a alta temperatura. En Semicera, estamos orgullosos das nosas capacidades avanzadas para producir paletas de obleas de alta calidade que cumpran as rigorosas demandas de...Ler máis -
Proceso e equipamento de semicondutores (7/7) - Proceso e equipamento de crecemento de película fina
1. Introdución O proceso de unir substancias (materias primas) á superficie dos materiais do substrato por métodos físicos ou químicos chámase crecemento de película fina. Segundo os diferentes principios de funcionamento, a deposición de película fina de circuíto integrado pódese dividir en: - Deposición física de vapor ( P...Ler máis -
Proceso e equipamento de semicondutores (6/7) - Proceso e equipamento de implantación de ións
1. Introdución A implantación iónica é un dos principais procesos na fabricación de circuítos integrados. Refírese ao proceso de acelerar un feixe iónico ata unha determinada enerxía (xeralmente no intervalo de keV a MeV) e despois inxectalo na superficie dun material sólido para cambiar o soporte físico...Ler máis -
Proceso e equipamento de semicondutores (5/7) - Proceso e equipamento de grabado
Unha introdución O gravado no proceso de fabricación de circuítos integrados divídese en: - Gravado en húmido; - Gravado en seco. Nos primeiros días, o gravado húmido era moi utilizado, pero debido ás súas limitacións no control do ancho da liña e na direccionalidade do gravado, a maioría dos procesos despois de 3 μm usan o gravado en seco. O gravado húmido é...Ler máis