O material de cristal único de carburo de silicio (SiC) ten un ancho de banda grande (~ Si 3 veces), alta condutividade térmica (~ Si 3,3 veces ou GaAs 10 veces), alta taxa de migración de saturación de electróns (~ Si 2,5 veces), alta ruptura eléctrica. campo (~Si 10 veces ou GaAs 5 veces) e outras características destacadas.
Os materiais semicondutores de terceira xeración inclúen principalmente SiC, GaN, diamante, etc., porque o seu ancho de banda lavada (Eg) é maior ou igual a 2,3 electróns voltios (eV), tamén coñecidos como materiais semicondutores de banda ancha. En comparación cos materiais semicondutores de primeira e segunda xeración, os materiais semicondutores de terceira xeración teñen as vantaxes dunha alta condutividade térmica, un alto campo eléctrico de ruptura, unha alta taxa de migración de electróns saturados e unha alta enerxía de enlace, que poden satisfacer os novos requisitos da tecnoloxía electrónica moderna para altas velocidades. temperatura, alta potencia, alta presión, alta frecuencia e resistencia á radiación e outras condicións duras. Ten importantes perspectivas de aplicación nos campos da defensa nacional, aviación, aeroespacial, exploración de petróleo, almacenamento óptico, etc., e pode reducir a perda de enerxía en máis do 50% en moitas industrias estratéxicas como as comunicacións de banda ancha, a enerxía solar, a fabricación de automóbiles, etc. a iluminación de semicondutores e a rede intelixente, podendo reducir o volume dos equipos en máis do 75%, o que ten unha importancia histórica para o desenvolvemento da ciencia e tecnoloxía humana.
A enerxía Semicera pode proporcionar aos clientes un substrato de carburo de silicio condutor (condutor), semiillante (semiillante), HPSI (semiillante de alta pureza); Ademais, podemos proporcionar aos clientes follas epitaxiais de carburo de silicio homoxéneas e heteroxéneas; Tamén podemos personalizar a folla epitaxial segundo as necesidades específicas dos clientes e non hai cantidade mínima de pedido.
ESPECIFICACIÓNS BÁSICAS DO PRODUTO
Tamaño | 6 polgadas |
Diámetro | 150,0 mm+0 mm/-0,2 mm |
Orientación da superficie | fóra do eixe: 4° cara a <1120>±0,5° |
Lonxitude plana primaria | 47,5 mm 1,5 mm |
Orientación primaria de piso | <1120>±1,0° |
Piso Secundario | Ningún |
Espesor | 350,0 um ± 25,0 um |
Politipo | 4H |
Tipo condutor | tipo n |
ESPECIFICACIÓNS DE CALIDADE DE CRISTAL
6 polgadas | ||
Elemento | Grao P-MOS | Grao P-SBD |
Resistividade | 0,015Ω·cm-0,025Ω·cm | |
Politipo | Ningún permitido | |
Densidade de microtubo | ≤0,2/cm2 | ≤0,5/cm2 |
EPD | ≤4000/cm2 | ≤8000/cm2 |
TED | ≤3000/cm2 | ≤6000/cm2 |
BPD | ≤1000/cm2 | ≤2000/cm2 |
TSD | ≤300/cm2 | ≤1000/cm2 |
SF (medido por UV-PL-355nm) | ≤0,5% de superficie | ≤1% de superficie |
Placas hexagonales por luz de alta intensidade | Ningún permitido | |
Visual CarbonInclusións por luz de alta intensidade | Área acumulada ≤ 0,05 % |