Bandeja MOCVD revestida de SiC de alta pureza antioxidación

Breve descrición:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. é un provedor líder especializado en obleas e consumibles de semicondutores avanzados.Dedicámonos a ofrecer produtos de alta calidade, fiables e innovadores para a fabricación de semicondutores,industria fotovoltaicae outros campos relacionados.

A nosa liña de produtos inclúe produtos de grafito revestidos de SiC/TaC e produtos cerámicos, que inclúen diversos materiais como carburo de silicio, nitruro de silicio e óxido de aluminio, etc.

Como provedor de confianza, entendemos a importancia dos consumibles no proceso de fabricación e estamos comprometidos en ofrecer produtos que cumpran os máis altos estándares de calidade para satisfacer as necesidades dos nosos clientes.

 

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Descrición

A nosa empresa ofreceRevestimento de SiCServizos de proceso mediante o método CVD na superficie de grafito, cerámica e outros materiais, de xeito que os gases especiais que conteñen carbono e silicio reaccionen a alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superficie dos materiais revestidos, formando unCapa protectora de SiC.

 

Características principais

1. Resistencia á oxidación a alta temperatura:
a resistencia á oxidación aínda é moi boa cando a temperatura é tan alta como 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposición química de vapor en condicións de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia á erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia á corrosión: ácido, álcali, sal e reactivos orgánicos.

Especificacións principais do revestimento CVD-SIC

Propiedades SiC-CVD
Estrutura cristalina Fase β de FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamaño de gran μm 2~10
Pureza Química % 99,99995
Capacidade calorífica J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura de sublimación 2700
Forza felexural MPa (RT de 4 puntos) 415
Módulo de Young Gpa (cobra de 4 puntos, 1300 ℃) 430
Expansión térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mK) 300
MOCVD PARTES EPITAXIAIS
Disco MOCVD

Equipos

sobre

Lugar de traballo Semicera
Lugar de traballo semicera 2
Máquina de equipamento
Procesamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
Almacén Semicera
O noso servizo

  • Anterior:
  • Seguinte: