Semiceraten o pracer de ofrecer oCasete PFA, unha opción premium para a manipulación de obleas en ambientes onde a resistencia química e a durabilidade son primordiales. Elaborado a partir de material de perfluoroalcoxi (PFA) de alta pureza, este casete está deseñado para soportar as condicións máis esixentes na fabricación de semicondutores, garantindo a seguridade e a integridade das súas obleas.
Resistencia química inigualableOCasete PFAestá deseñada para proporcionar unha resistencia superior a unha ampla gama de produtos químicos, polo que é a opción perfecta para procesos que impliquen ácidos, disolventes e outros produtos químicos agresivos. Esta robusta resistencia química garante que o casete permaneza intacto e funcional mesmo nos ambientes máis corrosivos, prolongando así a súa vida útil e reducindo a necesidade de substitucións frecuentes.
Construción de alta purezaSemiceraCasete PFAestá fabricado a partir de material PFA ultra puro, que é fundamental para evitar a contaminación durante o procesamento de obleas. Esta construción de alta pureza minimiza o risco de xeración de partículas e lixiviación química, garantindo que as súas obleas estean protexidas de impurezas que poidan comprometer a súa calidade.
Durabilidade e rendemento melloradosDeseñado para durabilidade, oCasete PFAmantén a súa integridade estrutural baixo temperaturas extremas e condicións de procesamento rigorosas. Xa sexa exposto a altas temperaturas ou sometido a unha manipulación repetida, este casete mantén a súa forma e rendemento, ofrecendo fiabilidade a longo prazo en ambientes de fabricación esixentes.
Enxeñaría de precisión para a manipulación seguraOCasete PFA Semicerapresenta unha enxeñería precisa que garante un manexo seguro e estable das obleas. Cada ranura está coidadosamente deseñada para manter as obleas de forma segura no seu lugar, evitando calquera movemento ou desprazamento que poida producir danos. Esta enxeñería de precisión admite a colocación de obleas consistente e precisa, contribuíndo á eficiencia global do proceso.
Aplicación versátil en todos os procesosGrazas ás súas propiedades materiais superiores, oCasete PFAé o suficientemente versátil como para ser usado en varias etapas de fabricación de semicondutores. É especialmente axeitado para o gravado húmido, a deposición química de vapor (CVD) e outros procesos que impliquen ambientes químicos duros. A súa adaptabilidade convérteo nunha ferramenta esencial para manter a integridade do proceso e a calidade das obleas.
Compromiso coa Calidade e a InnovaciónEn Semicera, comprometémonos a ofrecer produtos que cumpran os máis altos estándares da industria. OCasete PFAexemplifica este compromiso, ofrecendo unha solución fiable que se integra perfectamente nos seus procesos de fabricación. Cada casete sometese a un estrito control de calidade para garantir que cumpre os nosos rigorosos criterios de rendemento, ofrecendo a excelencia que esperas de Semicera.
Elementos | Produción | Investigación | Maniquí |
Parámetros de cristal | |||
Politipo | 4H | ||
Erro de orientación da superficie | <11-20 >4±0,15° | ||
Parámetros eléctricos | |||
Dopante | Nitróxeno tipo n | ||
Resistividade | 0,015-0,025 ohmios·cm | ||
Parámetros mecánicos | |||
Diámetro | 150,0 ± 0,2 mm | ||
Espesor | 350 ± 25 μm | ||
Orientación plana primaria | [1-100]±5° | ||
Lonxitude plana primaria | 47,5 ± 1,5 mm | ||
Piso secundario | Ningún | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Proa | -15 μm ~ 15 μm | -35 μm ~ 35 μm | -45 μm ~ 45 μm |
Deformación | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Rugosidade frontal (Si-face) (AFM) | Ra ≤ 0,2 nm (5 μm * 5 μm) | ||
Estrutura | |||
Densidade de microtubos | <1 ea/cm2 | <10 unidades/cm2 | <15 ea/cm2 |
Impurezas metálicas | ≤5E10 átomos/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Calidade frontal | |||
Fronte | Si | ||
Acabado superficial | CMP Si-face | ||
Partículas | ≤60ea/oblea (tamaño ≥0,3μm) | NA | |
Raiaduras | ≤5 unidades/mm. Lonxitude acumulada ≤Diámetro | Lonxitude acumulada ≤ 2 * Diámetro | NA |
Casca de laranxa/focos/manchas/estrías/fechas/contaminación | Ningún | NA | |
Fichas de borde/sanges/fracturas/placas hexagonales | Ningún | ||
Áreas politípicas | Ningún | Área acumulada ≤ 20% | Área acumulada ≤ 30% |
Marcado frontal con láser | Ningún | ||
Calidade traseira | |||
Acabado traseiro | C-face CMP | ||
Raiaduras | ≤5ea/mm,Lonxitude acumulada≤2*Diámetro | NA | |
Defectos posteriores (fichas de bordo/sangrías) | Ningún | ||
Rugosidade nas costas | Ra ≤ 0,2 nm (5 μm * 5 μm) | ||
Marcado láser traseiro | 1 mm (desde o borde superior) | ||
Borde | |||
Borde | Chaflán | ||
Embalaxe | |||
Embalaxe | Epi-ready con envasado ao baleiro Embalaxe de casetes multiwafer | ||
*Notas: "NA" significa que non hai solicitude. Os elementos non mencionados poden referirse a SEMI-STD. |