Partes da segunda metade para deflectores inferiores en proceso epitaxial

Partes da segunda metade para deflectores inferiores no proceso epitaxial Imaxe destacada

Breve descrición:

Piezas de grafito revestidas de SiC para equipos epitaxiais de SiC.

Introdución e uso do produto: tubo de cuarzo conectado, pode pasar gas para impulsar a rotación da base da bandexa, control de temperatura

Localización do dispositivo do produto: na cámara de reacción, non en contacto directo coa oblea

Principais produtos posteriores: dispositivos de enerxía

Mercado terminal principal: vehículos de nova enerxía

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Revestimento de SiCParte de media lúa de grafitoé un compoñente clave utilizado nos procesos de fabricación de semicondutores, especialmente para equipos epitaxiais de SiC. Usamos a nosa tecnoloxía patentada para facer a parte de media lúa cunha pureza extremadamente alta, unha boa uniformidade de revestimento e unha excelente vida útil, así como unha alta resistencia química e propiedades de estabilidade térmica.

微信图片_202307131721041

微信图片_202307131721044

微信图片_202307131721042

微信图片_202307131721043

Lugar de traballo Semicera

Lugar de traballo semicera 2

Máquina de equipamento

Procesamento CNN, limpeza química, revestimento CVD

O noso servizo

Anterior: Corte de material avanzado, equipos de procesamento con láser micro jet

Seguinte: 19 pezas de pezas de equipamento MOCVD con base de grafito de 2 polgadas

PRODUTOS RELACIONADOS