Disco de carburo de silicio para MOCVD

ODisco de carburo de siliciopara MOCVD de semicera, unha solución de alto rendemento deseñada para unha eficiencia óptima nos procesos de crecemento epitaxial. O disco de carburo de silicio semicera ofrece unha estabilidade térmica e precisión excepcionales, polo que é un compoñente esencial nos procesos de epitaxia de Si e de epitaxia de SiC. Deseñado para soportar as altas temperaturas e as condicións esixentes das aplicacións MOCVD, este disco garante un rendemento e unha lonxevidade fiables.

O noso disco de carburo de silicio é compatible cunha ampla gama de configuracións MOCVD, incluíndoSusceptor MOCVDsistemas e admite procesos avanzados como GaN en SiC Epitaxy. Tamén se integra sen problemas cos sistemas PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier e RTP Carrier, mellorando a precisión e a calidade da súa produción. Tanto se se usa para a produción de silicio monocristalino como para aplicacións de susceptores epitaxiais LED, este disco garante resultados excepcionais.

Ademais, o disco de carburo de silicio de semicera é adaptable a varias configuracións, incluíndo configuracións de Susceptor Pancake e Susceptor de barril, que ofrece flexibilidade en diversos ambientes de fabricación. A inclusión de pezas fotovoltaicas amplía aínda máis a súa aplicación ás industrias de enerxía solar, converténdoa nun compoñente versátil e indispensable para as industrias modernas.epitaxialcrecemento e fabricación de semicondutores.