Descrición
Os susceptores de obleas de SiC de Semicorex para MOCVD (Deposición de vapor químico metal-orgánico) están deseñados para satisfacer as esixentes demandas dos procesos de deposición epitaxial. Utilizando carburo de silicio (SiC) de alta calidade, estes susceptores ofrecen unha durabilidade e un rendemento incomparables en ambientes corrosivos e de alta temperatura, garantindo o crecemento preciso e eficiente dos materiais semicondutores.
Características principais:
1. Propiedades dos materiais superioresConstruídos a partir de SiC de alta calidade, os nosos susceptores de obleas presentan unha condutividade térmica e unha resistencia química excepcionales. Estas propiedades permítenlles soportar as condicións extremas dos procesos MOCVD, incluíndo altas temperaturas e gases corrosivos, o que garante a lonxevidade e un rendemento fiable.
2. Precisión na Deposición EpitaxialA enxeñería precisa dos nosos susceptores de obleas de SiC garante unha distribución uniforme da temperatura na superficie da oblea, facilitando o crecemento da capa epitaxial consistente e de alta calidade. Esta precisión é fundamental para producir semicondutores con propiedades eléctricas óptimas.
3. Durabilidade melloradaO robusto material SiC proporciona unha excelente resistencia ao desgaste e á degradación, incluso baixo a exposición continua a ambientes de proceso duros. Esta durabilidade reduce a frecuencia de substitucións de susceptores, minimizando o tempo de inactividade e os custos operativos.
Aplicacións:
Os susceptores de obleas SiC de Semicorex para MOCVD son idóneos para:
• Crecemento epitaxial de materiais semicondutores
• Procesos MOCVD a alta temperatura
• Produción de GaN, AlN e outros semicondutores compostos
• Aplicacións avanzadas de fabricación de semicondutores
Especificacións principais dos revestimentos CVD-SIC:
Beneficios:
•Alta precisión: Asegura un crecemento epitaxial uniforme e de alta calidade.
•Rendemento de longa duración: A durabilidade excepcional reduce a frecuencia de substitución.
• Eficiencia en custos: Minimiza os custos operativos mediante a redución do tempo de inactividade e do mantemento.
•Versatilidade: personalizable para adaptarse a varios requisitos do proceso MOCVD.