A oblea de carburo de silicio de Semicera está creada para satisfacer as demandas da industria actual de semicondutores de alta precisión. Coñecido pola súa excepcional durabilidade, alta estabilidade térmica e pureza superior, estehostiaé esencial para a proba, a calibración e a garantía de calidade na fabricación de semicondutores. A oblea ficticia de carburo de silicio de Semicera ofrece unha resistencia ao desgaste incomparable, o que garante que pode soportar un uso rigoroso sen degradación, polo que é ideal tanto para ambientes de I+D como de produción.
Deseñado para soportar diversas aplicacións, a oblea de carburo de silicio utilízase con frecuencia en procesos que implicanSi Wafer, Substrato SiC, Oblea SOI, Substrato SiN, eEpi-Obleatecnoloxías. A súa excelente condutividade térmica e a súa integridade estrutural fan que sexa unha excelente opción para o procesamento e manipulación a alta temperatura, que son comúns na fabricación de compoñentes e dispositivos electrónicos avanzados. Ademais, a alta pureza da oblea minimiza os riscos de contaminación, preservando a calidade dos materiais semicondutores sensibles.
Na industria de semicondutores, a oblea ficticia de carburo de silicio serve como oblea de referencia fiable para probas de novos materiais, incluíndo o óxido de galio Ga2O3 e a oblea de AlN. Estes materiais emerxentes requiren unha análise e probas coidadosas para garantir a súa estabilidade e rendemento en varias condicións. Ao usar a oblea ficticia de Semicera, os fabricantes conseguen unha plataforma estable que mantén a coherencia do rendemento, axudando ao desenvolvemento de materiais de próxima xeración para aplicacións de alta potencia, RF e alta frecuencia.
Aplicacións en todas as industrias
• Fabricación de Semicondutores
As obleas de SiC son esenciais na fabricación de semicondutores, especialmente durante as fases iniciais da produción. Serven como barreira protectora, protexendo as obleas de silicio de posibles danos e garantindo a precisión do proceso.
•Garantía de calidade e probas
Na garantía de calidade, as obleas simuladas de SiC son cruciais para os controis de entrega e a avaliación dos formularios do proceso. Permiten medicións precisas de parámetros como o espesor da película, a resistencia á presión e o índice de reflexión, contribuíndo á validación dos procesos de produción.
•Litografía e verificación de patróns
En litografía, estas obleas serven como referencia para a medición do tamaño do patrón e a comprobación de defectos. A súa precisión e fiabilidade axudan a conseguir a exactitude xeométrica desexada, crucial para a funcionalidade dos dispositivos semicondutores.
•Investigación e Desenvolvemento
En contornas de I+D, a flexibilidade e durabilidade dos Dummy Wafers de SiC admiten unha ampla experimentación. A súa capacidade para soportar condicións de proba rigorosas fainos inestimables para desenvolver novas tecnoloxías de semicondutores.
