O noso LPCVD(Deposición de vapor químico a baixa presión)Barco de carburo de silicioestá deseñada con tecnoloxía de punta, deseñada para o proceso de fabricación de semicondutores a alta temperatura. Este de alta calidadebarco de carburo de silicioofrece un rendemento e fiabilidade excepcionais en condicións extremas, polo que é unha opción ideal para a fabricación de semicondutores e outros procesos de alta temperatura.
Estabilidade a altas temperaturas:O nosobarco de carburo de siliciosoporta temperaturas ata1700°C, garantindo estabilidade e rendemento en operacións continuas a alta temperatura.
Inercia química:Cunha estabilidade química excepcional, resiste a corrosión de ácidos, bases e outros produtos químicos corrosivos, garantindo a durabilidade durante o uso a longo prazo.
Condutividade térmica superior:A alta condutividade térmica garante unha distribución uniforme da temperatura en todo o barco, contribuíndo a mellorar a calidade e consistencia do produto.
Resistencia e resistencia ao desgaste:A resistencia mecánica excepcional e a resistencia ao desgaste permiten un uso continuo sen danos, reducindo a frecuencia e o custo de substitución.
Aplicacións:
Adecuado para varios procesos de alta temperatura, incluíndo, entre outros, a fabricación de semicondutores, a produción de células solares e as operacións de fornos de alta temperatura. O seu alto rendemento e fiabilidade fan que sexa a opción ideal para estas aplicacións esixentes.
Por que escollerO noso LPCVDBarco de carburo de silicio?
Comprometémonos a ofrecer os máis altos estándares de produtos e servizos.O noso LPCVDBarco de carburo de silicionon só proporciona un rendemento e unha durabilidade excelentes, senón que tamén axuda a optimizar a eficiencia e a calidade da produción, reducindo os custos operativos. Escollernos significa seleccionar un socio de confianza para impulsar o seu negocio.