Revestimento CVD TaC

Introdución ao revestimento CVD TaC:

O revestimento CVD TaC é unha tecnoloxía que utiliza a deposición química de vapor para depositar o revestimento de carburo de tántalo (TaC) na superficie dun substrato. O carburo de tantalio é un material cerámico de alto rendemento con excelentes propiedades mecánicas e químicas. O proceso CVD xera unha película uniforme de TaC na superficie do substrato mediante a reacción do gas.

Principais características:

Excelente dureza e resistencia ao desgaste: O carburo de tantalio ten unha dureza extremadamente alta e o revestimento CVD TaC pode mellorar significativamente a resistencia ao desgaste do substrato. Isto fai que o revestimento sexa ideal para aplicacións en ambientes de alto desgaste, como ferramentas de corte e moldes.

Estabilidade a alta temperatura: Os revestimentos de TaC protexen os compoñentes críticos do forno e do reactor a temperaturas de ata 2200 °C, demostrando unha boa estabilidade. Mantén a estabilidade química e mecánica en condicións de temperatura extremas, polo que é axeitado para procesamento a alta temperatura e aplicacións en ambientes de alta temperatura.

Excelente estabilidade química: O carburo de tantalio ten unha forte resistencia á corrosión para a maioría dos ácidos e álcalis, e o revestimento CVD TaC pode evitar eficazmente danos ao substrato en ambientes corrosivos.

Alto punto de fusión: O carburo de tantalio ten un alto punto de fusión (aproximadamente 3880 °C), o que permite que o revestimento CVD TaC se use en condicións de temperatura extremadamente altas sen fundir nin degradarse.

Excelente condutividade térmica: O revestimento de TaC ten unha alta condutividade térmica, o que axuda a disipar eficazmente a calor en procesos de alta temperatura e evita o sobreenriquecido local.

Aplicacións potenciais:

• Compoñentes do reactor CVD epitaxial de nitruro de galio (GaN) e carburo de silicio, incluíndo soportes de obleas, antenas parabólicas, duchas, teitos e susceptores.

• Compoñentes de crecemento de cristal de carburo de silicio, nitruro de galio e nitruro de aluminio (AlN), incluíndo crisols, soportes de sementes, aneis guía e filtros.

• Compoñentes industriais, incluíndo elementos de calefacción de resistencia, boquillas de inxección, aneis de enmascaramento e prótesis de soldadura

Características da aplicación:

• Temperatura estable por riba dos 2000°C, permitindo o funcionamento a temperaturas extremas
•Resistente ao hidróxeno (Hz), amoníaco (NH3), monosilano (SiH4) e silicio (Si), proporcionando protección en ambientes químicos duros.
• A súa resistencia ao choque térmico permite ciclos de operación máis rápidos
• O grafito ten unha forte adhesión, o que garante unha longa vida útil e sen delaminación do revestimento.
• Pureza ultra alta para eliminar impurezas ou contaminantes innecesarios
• Cobertura de revestimento conformado con tolerancias dimensionais estreitas

Especificacións técnicas:

Preparación de revestimentos densos de carburo de tántalo mediante CVD:

Revestimento TAC con alta cristalinidade e excelente uniformidade:

CVD TAC COATING Parámetros técnicos_Semicera:

Os anteriores son valores típicos.