Porta obleas

Porta obleasé un compoñente indispensable no proceso de epitaxia. Semicera ofrece o mellor soporte paraSi epitaxiaeEpitaxia SiCprocesos mediante un excelente deseño e fabricación. O noso soporte para obleas pode garantir que a oblea permaneza posicionada con precisión durante o proceso de epitaxia, garantindo a uniformidade da distribución do fluxo de aire e da calor, especialmente xogando un papel fundamental noSusceptor MOCVDeSusceptor de barril. Tanto se se trata da deposición de silicio monocristalino (silicio monocristalino) como do complexo proceso de deposición de vapor químico, o soporte de obleas de Semicera pode garantir unha estrutura cristalina de alta calidade e un crecemento estable da capa epitaxial.

O soporte para obleas de Semicera está feito de materiais resistentes a altas temperaturas de alta calidade, cunha resistencia mecánica e estabilidade térmica extremadamente altas, e pódese usar durante moito tempo en ambientes químicos complexos e de alta temperatura sen fallas. Especialmente noSi epitaxiaeEpitaxia SiCprocesos, o soporte de obleas de Semicera reduce a taxa de defectos e a perda de obleas no proceso mediante un control preciso e unha excelente selección de material.

Ofrecemos personalizadoObleaSoportes para diferentes requisitos de procesos e equipos, especialmente nas aplicacións MOCVD Susceptor e Barrel Susceptor. Os produtos de Semicera non só prolongan a vida útil do equipo, senón que tamén melloran a eficiencia e estabilidade do proceso de epitaxia, garantindo que a produción de cada oblea cumpra os estritos estándares da industria.

Semicera sempre se comprometeu a proporcionar aos clientes soportes de obleas de alto rendemento, xa sexa para I+D ou produción en masa, para satisfacer as diversas necesidades dos clientes nos procesos de Epitaxia Si e Epitaxia SiC. Seguimos innovando para garantir que os clientes poidan obter a mellor calidade do produto e control do proceso no proceso de fabricación de semicondutores.