Epitaxia SiC

Breve descrición:

Semicera ofrece epitaxia SiC de película fina personalizada (carburo de silicio) sobre substratos para o desenvolvemento de dispositivos de carburo de silicio. Weitai comprométese a ofrecer produtos de calidade e prezos competitivos, e estamos ansiosos por ser o seu socio a longo prazo en China.

 

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Epitaxia SiC (2)(1)

Descrición do produto

4h-n 4inch 6inch dia100mm sic oblea de sementes 1mm de espesor para o crecemento do lingote

Tamaño personalizado/2 polgadas/3 polgadas/4 polgadas/6 polgadas 6H-N/4H-SEMI/ 4H-N Lingotes SIC de alta pureza 4H-N 4 polgadas 6 polgadas de diámetro 150 mm Obleas de substrato de carburo de silicio (sic) monocristal S/ Obleas de produción individualizadas de SIC4 grao 4H-N 1,5 mm SIC Obleas para cristal de semente

Sobre o cristal de carburo de silicio (SiC).

O carburo de silicio (SiC), tamén coñecido como carborundum, é un semicondutor que contén silicio e carbono coa fórmula química SiC. SiC utilízase en dispositivos electrónicos semicondutores que funcionan a altas temperaturas ou altas tensións, ou ambos. SiC tamén é un dos compoñentes LED importantes, é un substrato popular para o cultivo de dispositivos GaN e tamén serve como espallador de calor en altas temperaturas. LEDs de potencia.

Descrición

Propiedade

4H-SiC, cristal único

6H-SiC, cristal único

Parámetros de celosía

a=3,076 Å c=10,053 Å

a=3,073 Å c=15,117 Å

Secuencia de apilado

ABCB

ABCACB

Dureza de Mohs

≈9,2

≈9,2

Densidade

3,21 g/cm3

3,21 g/cm3

Therm. Coeficiente de expansión

4-5×10-6/K

4-5×10-6/K

Índice de refracción @750nm

non = 2,61
ne = 2,66

non = 2,60
ne = 2,65

Constante dieléctrica

c~9.66

c~9.66

Condutividade térmica (tipo N, 0,02 ohm.cm)

a~4,2 W/cm·K@298K
c~3,7 W/cm·K@298K

 

Condutividade térmica (semiillante)

a~4,9 W/cm·K@298K
c~3,9 W/cm·K@298K

a~4,6 W/cm·K@298K
c~3,2 W/cm·K@298K

Band-gap

3,23 eV

3,02 eV

Campo eléctrico de avaría

3-5×106 V/cm

3-5×106 V/cm

Velocidade de deriva de saturación

2,0 × 105 m/s

2,0 × 105 m/s

Obleas de SiC

Lugar de traballo Semicera Lugar de traballo semicera 2 Máquina de equipamento Procesamento CNN, limpeza química, revestimento CVD O noso servizo


  • Anterior:
  • Seguinte: