O Solid SiC Focus Ring de Semicera é un compoñente de vangarda deseñado para satisfacer as demandas da fabricación avanzada de semicondutores. Feito de alta purezaCarburo de silicio (SiC), este anel de enfoque é ideal para unha ampla gama de aplicacións na industria de semicondutores, especialmente enProcesos CVD SiC, gravado por plasma eICPRIE (Grabado de iones reactivo de plasma acoplado indutivamente). Coñecido pola súa excepcional resistencia ao desgaste, alta estabilidade térmica e pureza, garante un rendemento duradeiro en ambientes de alto estrés.
En semicondutoreshostiaprocesamento, os aneis de foco de SiC sólido son cruciais para manter un gravado preciso durante as aplicacións de gravado en seco e obleas. O anel de foco de SiC axuda a enfocar o plasma durante procesos como as operacións da máquina de gravado por plasma, polo que é indispensable para o gravado de obleas de silicio. O material de SiC sólido ofrece unha resistencia incomparable á erosión, garantindo a lonxevidade do seu equipo e minimizando o tempo de inactividade, o que é esencial para manter un alto rendemento na fabricación de semicondutores.
O Solid SiC Focus Ring de Semicera está deseñado para soportar temperaturas extremas e produtos químicos agresivos que se atopan habitualmente na industria de semicondutores. Está deseñado específicamente para o seu uso en tarefas de alta precisión comoRevestimentos CVD SiC, onde a pureza e a durabilidade son primordiales. Con excelente resistencia ao choque térmico, este produto garante un rendemento constante e estable nas condicións máis duras, incluída a exposición a altas temperaturas durantehostiaprocesos de grabado.
En aplicacións de semicondutores, onde a precisión e a fiabilidade son fundamentais, o Solid SiC Focus Ring xoga un papel fundamental na mellora da eficiencia global dos procesos de gravado. O seu deseño robusto e de alto rendemento convérteo na elección perfecta para as industrias que requiren compoñentes de alta pureza que funcionan en condicións extremas. Se se usa enAnel CVD SiCaplicacións ou como parte do proceso de gravado por plasma, o anel de foco de SiC sólido de Semicera axuda a optimizar o rendemento do seu equipo, ofrecendo a lonxevidade e a fiabilidade que demandan os seus procesos de produción.
Características principais:
• Superior resistencia ao desgaste e alta estabilidade térmica
• Material de SiC sólido de alta pureza para unha vida útil prolongada
• Ideal para aplicacións de gravado por plasma, ICP RIE e gravado en seco
• Perfecto para o gravado de obleas, especialmente en procesos CVD SiC
• Rendemento fiable en ambientes extremos e altas temperaturas
• Asegura precisión e eficiencia no gravado de obleas de silicio
Aplicacións:
• Procesos CVD SiC na fabricación de semicondutores
• Gravado por plasma e sistemas ICP RIE
• Procesos de gravado en seco e de oblea
• Gravado e deposición en máquinas de gravado por plasma
• Compoñentes de precisión para aneis de obleas e aneis CVD SiC
Morfoloxía microscópica da superficie CVD SiC
Morfoloxía microscópica da sección transversal de CVD SiC
