Soportes de revestimento de SiC para gravado de semicondutores

Breve descrición:

Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd. é un provedor líder de cerámicas de semicondutores avanzadas. Os nosos produtos principais inclúen: discos gravados de carburo de silicio, remolques de barcos de carburo de silicio, buques de obleas de carburo de silicio (PV e semicondutores), tubos de forno de carburo de silicio, paletas cantilever de carburo de silicio, portabrocas de carburo de silicio, vigas de carburo de silicio, así como revestimentos CVD SiC e Revestimentos TaC.

Os produtos utilízanse principalmente nas industrias de semicondutores e fotovoltaicas, como o crecemento de cristales, epitaxia, gravado, envases, revestimentos e equipos de fornos de difusión.

 

 


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Descrición

A nosa empresa ofrece servizos de proceso de revestimento de SiC mediante o método CVD na superficie de grafito, cerámica e outros materiais, de xeito que os gases especiais que conteñen carbono e silicio reaccionen a alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superficie dos materiais revestidos, formando capa protectora SIC.

Características principais

1. Resistencia á oxidación a alta temperatura:
a resistencia á oxidación aínda é moi boa cando a temperatura é tan alta como 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposición química de vapor en condicións de cloración a alta temperatura.
3. Resistencia á erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia á corrosión: ácido, álcali, sal e reactivos orgánicos.

Especificacións principais do revestimento CVD-SIC

Propiedades SiC-CVD

Estrutura cristalina Fase β de FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamaño de gran μm 2~10
Pureza Química % 99,99995
Capacidade calorífica J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura de sublimación 2700
Forza felexural MPa (RT de 4 puntos) 415
Módulo de Young Gpa (cobra de 4 puntos, 1300 ℃) 430
Expansión térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mK) 300
Lugar de traballo Semicera
Lugar de traballo semicera 2
Máquina de equipamento
Procesamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
O noso servizo

  • Anterior:
  • Seguinte: