Susceptor de grafito con revestimento de carburo de silicio, soporte de obleas

Descrición curta:

Semicera ofrece unha ampla gama de susceptores e compoñentes de grafito deseñados para varios reactores de epitaxia.

A través de asociacións estratéxicas con OEM líderes da industria, ampla experiencia en materiais e capacidades de fabricación avanzadas, Semicera ofrece deseños personalizados para satisfacer os requisitos específicos da súa aplicación.O noso compromiso coa excelencia garante que reciba solucións óptimas para as súas necesidades do reactor de epitaxia.

 

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Descrición

O revestimento CVD-SiC ten as características de estrutura uniforme, material compacto, resistencia a altas temperaturas, resistencia á oxidación, alta pureza, resistencia a ácidos e álcalis e reactivo orgánico, con propiedades físicas e químicas estables.
En comparación cos materiais de grafito de alta pureza, o grafito comeza a oxidarse a 400 °C, o que provocará unha perda de po debido á oxidación, o que provocará contaminación ambiental para dispositivos periféricos e cámaras de baleiro e aumentará as impurezas do ambiente de alta pureza.
Non obstante, o revestimento de SiC pode manter a estabilidade física e química a 1600 graos, é amplamente utilizado na industria moderna, especialmente na industria de semicondutores.

FDVCDV

zcfvzxcvZSXCv

A nosa empresa ofrece servizos de proceso de revestimento de SiC mediante o método CVD na superficie de grafito, cerámica e outros materiais, de xeito que os gases especiais que conteñen carbono e silicio reaccionen a alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superficie dos materiais revestidos, formando capa protectora SIC.O SIC formado está firmemente unido á base de grafito, dándolle propiedades especiais á base de grafito, facendo que a superficie do grafito sexa compacta, libre de porosidade, resistencia a altas temperaturas, resistencia á corrosión e á oxidación.

Aplicación

Características principais

1 .Grafito revestido de SiC de alta pureza

2. Resistencia á calor superior e uniformidade térmica

3. Revestimento de cristal fino de SiC para unha superficie lisa

4. Alta durabilidade fronte á limpeza química

Especificacións principais dos revestimentos CVD-SIC

SiC-CVD
Densidade (g/cc) 3.21
Resistencia á flexión (Mpa) 470
Expansión térmica (10-6/K) 4
Condutividade térmica (W/mK) 300

Embalaxe e envío

Capacidade de subministración:
10000 unidades/unidades por mes
Embalaxe e entrega:
Embalaxe: embalaxe estándar e forte
Bolsa de polietileno + caixa + cartón + palés
Porto:
Ningbo/Shenzhen/Xangai
Prazo de entrega:

Cantidade (unidades) 1-1000 > 1000
Est.Tempo (días) 15 Para ser negociado
Lugar de traballo Semicera
Lugar de traballo semicera 2
Máquina de equipamento
Procesamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
O noso servizo

  • Anterior:
  • Seguinte: